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【半導(dǎo)光電】光刻機(jī)之戰(zhàn)

發(fā)稿時(shí)間:2023-05-12 18:16:35 來(lái)源: 面包芯語(yǔ)


(資料圖片)

震撼一下,看看芯片內(nèi)部 Credit: ASML

注:1nm=0.000000001米

EUV光刻機(jī) Credit: ASML

----與智者為伍為創(chuàng)新賦能----

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